Conoscenza Insegnamento dell'Ingegneria Chimica In che modo l'approssimazione dello stato pseudostazionario può analizzare i tassi di crescita dei solidi? Ottimizzare il congelamento e la cristallizzazione nei tubi
Avatar dell'autore

Squadra tecnologica · LABPARK

Aggiornato 2 mesi fa

In che modo l'approssimazione dello stato pseudostazionario può analizzare i tassi di crescita dei solidi? Ottimizzare il congelamento e la cristallizzazione nei tubi


Utilizzare un bilancio termico a contorno mobile: l'approssimazione dello stato pseudostazionario tratta la conduzione del calore attraverso lo strato solido esistente come istantanea rispetto al movimento più lento dell'interfaccia solido-liquido. Il tasso di crescita del solido si ottiene quindi uguagliando il calore latente rilasciato all'interfaccia al calore trasferito attraverso il solido, la parete del tubo e il film di refrigerante interno. Man mano che lo strato si ispessisce, la sua resistenza termica aumenta, quindi il tasso di crescita diminuisce.

Il calcolo pratico è un bilancio di Stefan basato sulla resistenza: determinare la velocità di trasferimento del calore dalla temperatura di cambiamento di fase alla temperatura del refrigerante, quindi dividere tale velocità per il calore latente richiesto per creare ulteriore solido.

Cosa presuppone l'approssimazione dello stato pseudostazionario

I profili termici si adattano più velocemente di quanto si muova l'interfaccia

Il campo di temperatura nel solido è approssimato come stazionario in ogni istante, anche se il confine solido-liquido si sta muovendo. Ciò è ragionevole quando la diffusione termica attraverso il solido è molto più veloce del tempo richiesto affinché lo spessore dello strato cambi sostanzialmente.

L'approssimazione non significa che il processo sia veramente stazionario. Lo spessore del solido e la resistenza al trasferimento di calore variano ancora nel tempo.

Il calore latente domina il bilancio del contorno mobile

Per il congelamento o la cristallizzazione, il principale fabbisogno energetico associato al movimento dell'interfaccia è il calore latente di fusione o cristallizzazione. L'accumulo di calore sensibile nel solido e nel liquido viene trascurato o trattato come una correzione secondaria.

Il bilancio interfacciale si basa quindi su

[ \text{calore rimosso}=\text{calore latente rilasciato dal nuovo solido}. ]

L'interfaccia rimane vicina alla temperatura di cambiamento di fase

All'interfaccia solido-liquido viene solitamente assegnata la temperatura di equilibrio di cambiamento di fase, (T_m), o una temperatura di cristallizzazione efficace quando gli effetti di concentrazione o pressione sono importanti.

Ciò fornisce la forza motrice termica per rimuovere il calore attraverso il solido e l'assemblaggio del tubo.

Costruzione del modello di resistenza termica

Definire la geometria del tubo e del solido

Siano

  • (R_i) il raggio interno del tubo,
  • (R_t) il raggio esterno del tubo,
  • (R_s(t)) il raggio dell'interfaccia mobile solido-liquido,
  • (k_w) la conducibilità termica della parete del tubo,
  • (k_s) la conducibilità termica dello strato solido,
  • (h_i) il coefficiente di trasferimento termico interno lato refrigerante,
  • (T_c) la temperatura del refrigerante,
  • (\rho_s) la densità del solido,
  • (L) il calore latente di solidificazione o cristallizzazione.

Per un deposito che cresce verso l'esterno dalla superficie del tubo, il solido occupa la regione tra (R_t) e (R_s), e il suo spessore è

[ \delta(t)=R_s(t)-R_t. ]

Esprimere la resistenza per unità di lunghezza del tubo

Per un tubo cilindrico, le resistenze del film di refrigerante, della parete del tubo e dello strato solido per unità di lunghezza sono

[ \mathcal{R}_i'=\frac{1}{h_i,2\pi R_i}, ]

[ \mathcal{R}_w'=\frac{\ln(R_t/R_i)}{2\pi k_w}, ]

e

[ \mathcal{R}_s'=\frac{\ln(R_s/R_t)}{2\pi k_s}. ]

Resistenze aggiuntive possono essere incluse quando giustificato, come una resistenza di contatto all'interfaccia tubo-solido o una resistenza lato liquido all'esterno dello strato in crescita.

La resistenza totale per unità di lunghezza è quindi

[ \mathcal{R}_{\text{tot}}'

\frac{1}{h_i,2\pi R_i} + \frac{\ln(R_t/R_i)}{2\pi k_w} + \frac{\ln(R_s/R_t)}{2\pi k_s}. ]

Calcolare il tasso istantaneo di rimozione del calore

Sotto l'approssimazione pseudostazionaria, il calore rimosso per unità di lunghezza del tubo è

[ q'(R_s)

\frac{T_m-T_c}{\mathcal{R}_{\text{tot}}'}. ]

Questo tasso di calore viene valutato utilizzando il raggio dell'interfaccia attuale. Di conseguenza, il calcolo è quasi-stazionario ma cattura comunque la dipendenza temporale causata dalla crescita dello strato.

Derivazione del tasso di crescita del solido

Scrivere il bilancio del calore latente

Quando l'interfaccia si muove verso l'esterno di (dR_s), il volume di solido appena formato per unità di lunghezza del tubo è

[ dV'=2\pi R_s,dR_s. ]

Il calore latente corrispondente rilasciato è

[ dQ_{\text{latent}}'

\rho_s L,2\pi R_s,dR_s. ]

Dividendo per il tempo ed uguagliando questo tasso al calore rimosso si ottiene

[ q'(R_s)

2\pi R_s\rho_s L\frac{dR_s}{dt}. ]

Sostituendo l'espressione della resistenza si ottiene l'equazione di crescita governante:

[ \boxed{ \frac{dR_s}{dt}

\frac{T_m-T_c} { 2\pi R_s\rho_s L \left[ \frac{1}{h_i,2\pi R_i} + \frac{\ln(R_t/R_i)}{2\pi k_w} + \frac{\ln(R_s/R_t)}{2\pi k_s} \right] } } ]

Questa equazione fornisce il tasso di crescita radiale istantaneo dello strato solido.

Interpretare il declino del tasso di crescita

Man mano che (R_s) aumenta, la resistenza del solido

[ \frac{\ln(R_s/R_t)}{2\pi k_s} ]

aumenta anch'essa. Il flusso di calore che raggiunge il confine di fase diminuisce quindi, e l'interfaccia avanza più lentamente.

Anche il fattore (2\pi R_s) nel termine del calore latente è importante: un dato incremento radiale crea più volume di solido per unità di lunghezza del tubo man mano che la circonferenza dell'interfaccia cresce.

Semplificazioni utili per stime ingegneristiche

Utilizzare un'approssimazione planare per uno strato sottile

Se lo spessore del solido è piccolo rispetto al raggio del tubo, (\delta \ll R_t), la resistenza cilindrica può essere approssimata da una resistenza planare. L'equazione di crescita diventa

[ \frac{d\delta}{dt}

\frac{T_m-T_c} {\rho_s L \left[ \frac{1}{h_i} + \frac{t_w}{k_w} + \frac{\delta}{k_s} \right]}, ]

dove (t_w) è lo spessore della parete del tubo.

Se le resistenze del film di refrigerante e della parete sono raggruppate in una resistenza costante (R_0), allora

[ \frac{d\delta}{dt}

\frac{T_m-T_c} {\rho_s L\left(R_0+\delta/k_s\right)}. ]

Integrare per stimare lo spessore rispetto al tempo

Per proprietà costanti e differenza di temperatura, l'integrazione fornisce

[ t

\frac{\rho_s L}{T_m-T_c} \left[ R_0\delta+\frac{\delta^2}{2k_s} \right]. ]

Questo risultato mostra due regimi limite.

A spessore ridotto, le resistenze del film di refrigerante e della parete dominano, quindi la crescita è approssimativamente lineare nel tempo. A spessore maggiore, domina la conduzione del solido e appare il familiare comportamento simile alla diffusione:

[ \delta \propto \sqrt{t}. ]

Utilizzare la forma cilindrica per depositi sostanziali

Quando lo spessore dello strato non è piccolo rispetto al raggio del tubo, l'approssimazione planare può sottostimare la geometria e la resistenza variabili. L'equazione cilindrica dovrebbe quindi essere integrata numericamente, o analiticamente dopo aver espanso i termini di resistenza.

Per un'unità pilota basata su tubi, questa distinzione è importante perché i depositi possono diventare abbastanza spessi da far sì che l'area di trasferimento termico locale e la resistenza alla conduzione logaritmica influenzino entrambe il risultato.

Applicazione del modello a un'operazione unitaria basata su tubi

Stimare il coefficiente di trasferimento termico efficace

Il modello di resistenza identifica quale parte del sistema limita la crescita. Il film di refrigerante interno è rappresentato da (1/h_i), mentre il solido in crescita contribuisce con (\delta/k_s) nel limite planare.

Un coefficiente complessivo efficace può essere definito dalla resistenza totale, soggetto a un'area di riferimento coerente:

[ U=\frac{1}{R_{\text{total}}}. ]

Ciò consente di confrontare i tassi di crescita misurati con i valori calcolati e può rivelare se la limitazione dominante è la convezione lato refrigerante, la conduzione della parete del tubo o la conduzione dello strato solido.

Valutare le condizioni operative del refrigerante

La temperatura e la portata del refrigerante influenzano la forza motrice termica e il coefficiente interno (h_i). Abbassare (T_c) generalmente aumenta la forza motrice (T_m-T_c), mentre aumentare la velocità del refrigerante può ridurre la resistenza del film interno.

Il modello può quindi essere utilizzato per prevedere come i cambiamenti nelle condizioni di alimentazione del refrigerante influenzino il tasso di crescita iniziale e il tempo richiesto per raggiungere uno spessore dello strato target.

Tenere conto degli effetti di temperatura e composizione

Nei sistemi di cristallizzazione, (T_m) può variare con la concentrazione, la pressione o il rigetto di soluto all'interfaccia. Se il liquido diventa progressivamente concentrato, la temperatura di cambiamento di fase e la forza motrice disponibile possono cambiare durante l'operazione.

In tal caso, il bilancio dovrebbe essere aggiornato in funzione della posizione, del tempo o della composizione locale anziché utilizzare una singola (T_m) costante.

Accoppiare il modello al comportamento assiale del tubo

Un'unità di trasferimento termico reale può avere una temperatura del refrigerante che cambia lungo il tubo. La forza motrice locale è quindi

[ \Delta T(z,t)=T_m(z,t)-T_c(z,t), ]

e l'equazione di crescita deve essere risolta lungo la lunghezza del tubo così come nel tempo.

Ciò produce uno spessore locale (R_s(z,t)), che può identificare regioni in cui sono probabili depositi eccessivi, blocchi o cristallizzazione non uniforme.

Comprendere i compromessi

L'approssimazione omette il riscaldamento sensibile transitorio

Il modello pseudostazionario trascura il tempo richiesto per raffreddare il solido appena formato e il liquido vicino. Ciò è più difendibile quando il numero di Stefan è piccolo, il che significa che il calore latente è grande rispetto al calore sensibile associato al cambiamento di temperatura.

Quando gli effetti sensibili sono significativi, un modello di contorno mobile transitorio completo è più appropriato.

Le proprietà costanti possono essere irrealistiche

La conducibilità termica, la densità, il calore latente, la viscosità e i coefficienti di trasferimento termico possono variare con la temperatura e la composizione. Trattarli come costanti semplifica l'analisi ma può distorcere lo spessore e i tassi di crescita previsti.

La variazione delle proprietà dovrebbe essere inclusa quando l'intervallo operativo è ampio o quando i dati sperimentali mostrano deviazioni sistematiche dal modello semplice.

Le condizioni superficiali possono cambiare il comportamento dell'interfaccia

Il modello presuppone generalmente un'interfaccia ben definita e un flusso di calore radiale unidimensionale. Rugosità, incrostazioni, comportamento di nucleazione, convezione naturale, taglio e morfologia dei cristalli possono violare queste ipotesi.

Per la cristallizzazione, il deposito può anche essere poroso o dendritico anziché uno strato solido denso. La sua conducibilità efficace e l'area interfacciale possono quindi differire sostanzialmente dai valori ideali.

La crescita può ridurre la capacità di processo utile

Uno strato solido più spesso aumenta la resistenza termica e può ridurre il carico di trasferimento termico efficace dell'unità. Può anche restringere i passaggi di flusso, aumentare la caduta di pressione o causare cambiamenti nella qualità del prodotto a causa di un tempo di residenza eccessivo o di dimensioni dei cristalli non uniformi.

Pertanto, massimizzare il tasso di crescita istantaneo non equivale sempre a ottimizzare l'operazione unitaria complessiva.

Fare la scelta giusta per il proprio obiettivo

Utilizzare il modello pseudostazionario come primo strumento ingegneristico, quindi aumentare la complessità del modello solo quando le ipotesi influenzano materialmente il risultato.

  • Se il tuo obiettivo principale è stimare lo spessore del solido nel tempo: Utilizza il bilancio di resistenza cilindrico quando il deposito è sostanziale e l'equazione integrata planare per stime a strato sottile.
  • Se il tuo obiettivo principale è identificare la limitazione del trasferimento termico: Separare le resistenze del film di refrigerante, della parete del tubo e dello strato solido per determinare quale variabile operativa avrà il maggiore effetto.
  • Se il tuo obiettivo principale è ottimizzare il funzionamento del refrigerante: Valutare insieme la temperatura e la portata del refrigerante, poiché la forza motrice e la convezione interna controllano entrambe il tasso di rimozione del calore latente.
  • Se il tuo obiettivo principale è prevedere la crescita non uniforme in un'unità pilota: Accoppiare l'equazione di crescita locale ai bilanci assiali di temperatura e composizione del refrigerante.
  • Se il tuo obiettivo principale è una previsione ad alta fedeltà: Includere calore sensibile transitorio, proprietà variabili, resistenza del liquido esterno e morfologia del deposito quando il comportamento sperimentale non può essere spiegato dal modello pseudostazionario.

Un bilancio di resistenza allo stato pseudostazionario converte un confine di solidificazione mobile in un calcolo pratico di trasferimento termico, rendendo chiaro perché la crescita rallenta man mano che lo strato solido diventa più spesso.

Tabella riassuntiva:

Elemento chiave Approfondimento ingegneristico
Ipotesi principale I profili termici si adattano più velocemente di quanto si muova l'interfaccia solido-liquido.
Forza motrice Temperatura di cambiamento di fase meno temperatura del refrigerante, ΔT = Tm − Tc.
Percorso di trasferimento termico Film di refrigerante interno, parete del tubo e strato solido in crescita.
Bilancio di crescita Il calore rimosso equivale al calore latente rilasciato dal solido appena formato.
Crescita cilindrica Utilizzare il raggio dell'interfaccia attuale e la resistenza solida logaritmica per depositi spessi.
Stima a strato sottile La crescita è inizialmente quasi lineare, poi si avvicina a δ ∝ √t man mano che la resistenza del solido aumenta.
Controlli principali Temperatura del refrigerante, velocità del refrigerante, proprietà termiche, calore latente e spessore del deposito.
Limiti del modello Il riscaldamento sensibile transitorio, le proprietà variabili, gli effetti di composizione, le incrostazioni e i depositi porosi possono richiedere una modellazione a fedeltà superiore.

Prevedi e migliora il tuo processo basato su tubi

Hai bisogno di controllare il congelamento, la cristallizzazione o il deposito di solidi in un'unità pilota? Contatta LABPARK per discutere la tua applicazione con il nostro team.

LABPARK fornisce impianti pilota per operazioni unitarie educative e professionali per università, istituti di ricerca e aziende, comprese soluzioni per l'ingegneria chimica, i bioprocessi e la biotecnologia, e il trattamento ambientale e delle acque. Possiamo aiutarti a valutare le condizioni del refrigerante, la resistenza al trasferimento termico, la crescita dell'interfaccia, la variazione di temperatura assiale e i requisiti di scale-up in modo che tu possa:

  • Stimare lo spessore dello strato solido e il tempo di crescita in modo più affidabile.
  • Identificare se la portata del refrigerante, la conduzione della parete del tubo o la resistenza del deposito limitano le prestazioni.
  • Valutare i rischi di blocco, caduta di pressione e crescita non uniforme prima dell'operazione pilota.
  • Selezionare strumentazione e condizioni operative pratiche per l'insegnamento, la ricerca e lo sviluppo della produzione.

Contatta LABPARK per definire il tuo materiale target, la geometria del tubo, le condizioni del refrigerante e l'obiettivo di processo, e sviluppare un approccio di impianto pilota adatto alle tue esigenze.

Prodotti correlati

Domande frequenti

Prodotti correlati

Impianto Pilota Didattico per Operazioni Unitarie di Cristallizzazione a Membrana Multifunzionale

Impianto Pilota Didattico per Operazioni Unitarie di Cristallizzazione a Membrana Multifunzionale

Impianto pilota integrato in scala da banco per cristallizzazione a membrana, destinato alla formazione ingegneristica. Fornisce formazione pratica sulle tecnologie di separazione avanzate, combinando cristallizzazione per distillazione a membrana e intensificazione di processo. Caratterizzato da vasche di cristallizzazione variabili, controllo di flusso di livello industriale e acquisizione dati digitale interattiva. Personalizzabile per laboratori universitari.

Impianto Pilota Didattico per Operazioni Unitarie di Dissoluzione Termica e Cristallizzazione Separativa di Sali di Potassio

Impianto Pilota Didattico per Operazioni Unitarie di Dissoluzione Termica e Cristallizzazione Separativa di Sali di Potassio

Questo impianto pilota didattico consente agli studenti di ingegneria chimica di eseguire esperimenti di dissoluzione termica e cristallizzazione per raffreddamento di sali di potassio, integrando studi di solubilità, controllo della sovrasaturazione e separazione solido-liquido in un sistema di laboratorio sicuro, compatto e personalizzabile per l'apprendimento pratico delle operazioni unitarie.

Impianto Pilota per Operazioni di Unità Didattiche per la Misurazione del Fattore Efficace di Diffusione Intraparticellare

Impianto Pilota per Operazioni di Unità Didattiche per la Misurazione del Fattore Efficace di Diffusione Intraparticellare

Progettato per i laboratori universitari di ingegneria chimica, questo impianto pilota permette la determinazione pratica dei fattori efficaci di diffusione intraparticellare nelle particelle di catalizzatore e la cinetica delle reazioni gas-solido utilizzando un reattore tubolare a letto fisso con controllo industriale tramite touchscreen, collegando la teoria alla progettazione pratica dei reattori.

Impianto Pilota Didattico per la Determinazione della Distribuzione dei Tempi di Residenza e delle Caratteristiche di Flusso nei Reattori

Impianto Pilota Didattico per la Determinazione della Distribuzione dei Tempi di Residenza e delle Caratteristiche di Flusso nei Reattori

Questo versatile impianto pilota didattico è progettato per lo studio completo della distribuzione dei tempi di residenza e delle caratteristiche di flusso nei reattori; è dotato di più CSTR in serie, un reattore tubolare, un anello di ricircolo variabile e un'acquisizione dati automatizzata in tempo reale, ideale per la formazione pratica in ingegneria chimica.

Impianto Pilota Educativo per Distillazione Speciale Multifunzionale

Impianto Pilota Educativo per Distillazione Speciale Multifunzionale

Versatile impianto pilota per distillazione speciale multifunzionale per l'educazione all'ingegneria chimica. Supporta distillazione continua, sotto vuoto, azeotropica, reattiva ed estrattiva. Le colonne in vetro trasparente consentono l'osservazione visiva in tempo reale dell'idrodinamica e dei processi di separazione.

Impianto Pilota Didattico per Operazioni Unitario per la Determinazione delle Caratteristiche di Flusso in Reattori Tubolari

Impianto Pilota Didattico per Operazioni Unitario per la Determinazione delle Caratteristiche di Flusso in Reattori Tubolari

Impianto pilota didattico per lo studio delle caratteristiche di flusso e della distribuzione dei tempi di residenza in reattori tubolari. È dotato di riciclo regolabile per studi su flusso a pistone e rimescolamento, interfaccia touchscreen industriale e acquisizione dati in tempo reale. Ideale per l'addestramento e la formazione nei laboratori di operazioni unitarie dell'ingegneria chimica

Impianto Pilota Didattico per il Trasferimento di Calore a Tre Tubi per la Formazione sulle Operazioni Unitá

Impianto Pilota Didattico per il Trasferimento di Calore a Tre Tubi per la Formazione sulle Operazioni Unitá

Impianto pilota per il trasferimento di calore a tre tubi per lo studio del miglioramento del trasferimento di calore convettivo e della condensazione. Permette il confronto tra tubi lisci, ondulati e turbolenti, verificando le correlazioni empiriche. Ideale per la formazione in ingegneria chimica con sicurezza e recupero del vapore in circuito chiuso.

Impianto Pilota Didattico per l'Idrodinamica della Fluidizzazione Bidimensionale per la Formazione sulle Operazioni Unitarie

Impianto Pilota Didattico per l'Idrodinamica della Fluidizzazione Bidimensionale per la Formazione sulle Operazioni Unitarie

Esplora l'idrodinamica della fluidizzazione gas-solido e liquido-solido con il nostro impianto pilota didattico 2D trasparente. Ideale per i laboratori di operazioni unitarie di ingegneria chimica, dimostra i regimi da letto fisso a letto fluidizzato, misura la caduta di pressione e integra l'apprendimento digitale tramite codici QR per una formazione studentesca potenziata.

Impianto Pilota per la Formazione sulle Operazioni Unitari di Distillazione Multi-Modale

Impianto Pilota per la Formazione sulle Operazioni Unitari di Distillazione Multi-Modale

Impianto pilota di distillazione multi-modale per la formazione pratica sulle operazioni unitari nell'insegnamento dell'ingegneria chimica. Dispone di modalità di simulazione reale, analogica e semifyisca, costruzione conforme agli standard industriali e completamente personalizzabile per laboratori universitari. Include colonne di frazionamento pratiche, controllo SCADA e sistemi di sicurezza. È dotato di spie di ispezione, porte di campionamento e riciclo a circuito chiuso.

Impianto Pilota Didattico per Operazioni Unitarie di Evaporazione Flash in Condizioni Supercritiche ad Alta Gravità

Impianto Pilota Didattico per Operazioni Unitarie di Evaporazione Flash in Condizioni Supercritiche ad Alta Gravità

Sistema didattico integrato in scala banco per separazioni avanzate e trasferimento di massa, che combina evaporazione flash supercritica ad alta gravità con riscaldamento, reazione chimica e raccolta materiali, caratterizzato da design modulare, costruzione in Acciaio Inossidabile 316L, visualizzazione trasparente, controllo touchscreen e sistemi di sicurezza per la formazione in ingegneria chimica.

Impianto Pilota Didattico per Operazioni Unitarie di Filtrazione a Caldo

Impianto Pilota Didattico per Operazioni Unitarie di Filtrazione a Caldo

Questo impianto pilota integrato in scala banco laboratorio per la filtrazione a caldo consente agli studenti di studiare la separazione solido-liquido in condizioni termiche, caratterizzato da un serbatoio in acciaio inossidabile, una camicia riscaldante removibile e piastre filtranti multistrato per l'insegnamento delle operazioni unitarie, ideale per il curriculum di laboratorio di ingegneria chimica.

Impianto Pilota di Retificazione a Doppia Modalità per la Formazione Pratica sulle Operazioni Unitari

Impianto Pilota di Retificazione a Doppia Modalità per la Formazione Pratica sulle Operazioni Unitari

Impianto pilota di retificazione a doppia modalità su scala industriale per la formazione pratica in ingegneria chimica. È dotato di modalità di funzionamento con materiale reale e materiale simulato, colonna a piatti setacciati con vetri spia per l'osservazione visiva dell'idrodinamica e controllo SCADA personalizzabile per un apprendimento pratico e sicuro delle operazioni unitari e del trasferimento di massa.

Impianto Pilota Didattico per Operazioni Unitari di Polimerizzazione, Granulazione e Lavorazione di Pellet

Impianto Pilota Didattico per Operazioni Unitari di Polimerizzazione, Granulazione e Lavorazione di Pellet

Impianto pilota integrato per l'insegnamento della lavorazione dei polimeri, dalla polimerizzazione alla granulazione. Include reattore da 30L, idrolizzatore, estrusore-granulatore, essiccatore a vibrazione, frantoio e setaccio. Funzionamento a pressione atmosferica per la sicurezza, acciaio inossidabile resistente alla corrosione, personalizzabile per l'insegnamento di ingegneria chimica e dei polimeri. Ideale per laboratori universitari.

Impianto Pilota Didattico Multifunzionale per Separazione con Membrane con Ultrafiltrazione, Nanofiltrazione e Osmosi Inversa

Impianto Pilota Didattico Multifunzionale per Separazione con Membrane con Ultrafiltrazione, Nanofiltrazione e Osmosi Inversa

Un sistema integrato di separazione con membrane su scala da banco per laboratori di ingegneria dell'istruzione superiore che combina i processi di Ultrafiltrazione, Nanofiltrazione e Osmosi Inversa. È dotato di controllo industriale PLC con HMI touch-screen, tubazioni trasparenti e software per la valutazione accademica. Ideale per i curricula di ingegneria chimica e ambientale.

Impianto Pilota Didattico per la Distillazione, Purificazione e Formulazione di Elettroliti

Impianto Pilota Didattico per la Distillazione, Purificazione e Formulazione di Elettroliti

Impianto pilota didattico integrato da banco a scala pilota per la distillazione, purificazione e formulazione di elettroliti, realizzato in vetro borosilicato, con automazione PLC, HMI touchscreen e avanzate funzionalità di sicurezza industriale per formazione pratica su processi chimici, ideale per curricula di ingegneria chimica e scienza dei materiali.

Impianto Pilota Didattico per Operazioni Unitarie di Separazione Eterogenea Gas-Solido

Impianto Pilota Didattico per Operazioni Unitarie di Separazione Eterogenea Gas-Solido

Impianto pilota trasparente e visivo completo per la separazione gas-solido per laboratori di ingegneria chimica. Dimostra le tecnologie di sedimentazione gravitazionale, sedimentazione inerziale, ciclone e filtro a maniche. Consente l'analisi in tempo reale della meccanica fluido-particella, della caduta di pressione e dell'efficienza di raccolta. Ideale per i corsi universitari di operazioni unitarie.

Impianto Pilota Didattico per Operazioni Unitarie di Filtrazione a Pressione Costante

Impianto Pilota Didattico per Operazioni Unitarie di Filtrazione a Pressione Costante

Impianto pilota didattico pratico per la filtrazione a pressione costante. Il classico filtro pressa a piastre e telai consente agli studenti di studiare la cinetica, determinare la resistenza specifica del pannello, eseguire il lavaggio del pannello e valutare le velocità di lavaggio. Ideale per il curriculum di ingegneria chimica. Design mobile, personalizzabile e conforme alle norme di sicurezza.

Unità Pilota Educativa per Operazioni Unitarie per la Determinazione della Curva PVT dell'Anidride Carbonica

Unità Pilota Educativa per Operazioni Unitarie per la Determinazione della Curva PVT dell'Anidride Carbonica

Consenti l'apprendimento pratico dei principi termodinamici con questa unità pilota per la determinazione della curva PVT dell'anidride carbonica. Gli studenti visualizzano l'opalescenza critica, le transizioni di fase e generano isoterme P-V attraverso le regioni liquida, gassosa e supercritica. Funzionalità di sicurezza robuste, adattabile per i laboratori di ingegneria universitari.

Impianto Pilota Didattico per Distillazione Estrattiva Continua e Batch

Impianto Pilota Didattico per Distillazione Estrattiva Continua e Batch

Impianto pilota versatile per l'addestramento alla distillazione continua, batch e estrattiva. Colonna in vetro borosilicato alto per la visualizzazione dell'idraulica, touchscreen da 15,6 pollici con registrazione dati, controllo preciso del rapporto di riflusso 1-99 e telaio durevole resistente alla corrosione. Ideale per l'insegnamento di ingegneria chimica e la ricerca di processo.

Impianto Pilota per la Formazione sulle Operazioni Unitarie di Estrazione di Prodotti Naturali

Impianto Pilota per la Formazione sulle Operazioni Unitarie di Estrazione di Prodotti Naturali

Impianto pilota integrato per l'estrazione di prodotti naturali per la formazione in ingegneria chimica; colma il divario tra teoria e pratica industriale con moduli di estrazione ed evaporazione/concentrazione, controllo ibrido touchscreen e manuale, simulazione realistica dei processi e utility autonome per acqua addolcita e vuoto.


Lascia il tuo messaggio